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玻璃熔窯技術(shù)進(jìn)步對(duì)硅磚提出了新的要求

時(shí)間:2021-09-23 瀏覽:1538次

  玻璃熔窯技術(shù)進(jìn)步對(duì)硅磚提出了新的要求

  玻璃熔窯大碹硅磚由于長(zhǎng)期處在高溫負(fù)荷下工作,這就導(dǎo)致大碹不同厚度上的軟化程度不同,因此,熔窯大碹用硅磚應(yīng)選用高質(zhì)量的硅磚很重要。硅磚具有耐火度高、荷重軟化溫度高、受侵蝕后不易污染玻璃等優(yōu)良性能,因此,國(guó)內(nèi)外玻璃窯碹頂一般均選用硅磚。

大碹硅磚

  研究結(jié)果表明:常規(guī)玻璃窯碹頂用硅磚在高溫作用下的蝕變過(guò)程基本上是相變和雜質(zhì)遷移,化學(xué)侵蝕和溶解作用極其輕微,特別是高溫區(qū),沒(méi)有什么化學(xué)侵蝕。相變和自凈化的結(jié)果,使工作帶逐漸改變了自身的性能,其高溫性能得到提高。因此,優(yōu)質(zhì)硅磚能完全滿足熔化溫度提高和碹頂保溫的需要,是傳統(tǒng)玻璃窯碹頂用理想的耐火材料。

  但是,隨著玻璃質(zhì)量的提高,玻璃生產(chǎn)工藝的改善,玻璃熔窯的大型化,特別是全氧燃燒工藝的發(fā)展,窯內(nèi)NaOH蒸汽的濃度大增,侵蝕速度明顯加快,常規(guī)硅磚已不能滿足玻璃工業(yè)發(fā)展的需求。通過(guò)對(duì)玻璃窯用碹頂硅磚損毀機(jī)理的研究,不僅對(duì)整個(gè)玻璃窯優(yōu)質(zhì)硅磚的損毀機(jī)理有了進(jìn)一步理解,更為玻璃窯用低鈣高密度硅磚的研制提供了依據(jù),從而找出制磚工藝中存在的問(wèn)題,優(yōu)化出適合玻璃熔窯用的低鈣高密度硅磚生產(chǎn)工藝,研制生產(chǎn)出滿足我國(guó)玻璃工業(yè)發(fā)展迫切需要新型高檔硅質(zhì)耐火材料,這一問(wèn)題亟待解決。